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稳定快速的真空沉积气体流量控制

反应溅射真空沉积

质量流量控制器用于真空沉积设备，用于向过程供应气体时确保以可控和准确的方式完成。理想状态是仪表可快速响应并在几毫秒内达到设定值。FLEXI-FLOW Compact可帮助此类需求用户。

物理气相沉积（PVD）溅射或反应溅射是一种层积技术，其中溅射颗粒与引入溅射室的气体发生反应。

高能氩气被施加到金属（铝）板上，释放出溅射金属颗粒的蒸气。其与提供的活性气体发生反应，在玻璃、硅晶圆、金属或聚合物上沉积很薄的陶瓷层。反应溅射用于涂覆抗反射、硬化、抗磨等涂层。

快速流量控制在真空沉积技术中很重要。每一秒都节省时间和能源，提高沉积设备的效率。气体流量需要以可重复的方式以较大的动态流量范围提供，并具有长期稳定性，以确保质量。

FLEXI-FLOW Compact 质量流量控制器的响应时间达到150毫秒，无超调，可以满足真空涂层客户需要多通道流量解决方案，提供稳定快速流量控制和关闭功能的要求。

真空沉积设备的用户需要响应快速的气体供应系统。其优化压力和气体流量等工艺条件，并在涂层过程中测量涂层厚度来监测结果。在此过程中，应保持稳定、受控的气流，以保持涂层的正确厚度和成分。

当溅射系统监测到厚度或透明度出现偏差时，会通过调整气体流量来纠正沉积过程。因此，需要非常快的流量控制，响应时间150毫秒。

FLEXI-FLOW质量流量控制器可以做到。如果入口压力发生变化，气体流量控制器以尽可能快的速度响应将流量保持在设定值。当反应室发生变化，流量控制器接收到新的设定值。对新的设定值的快速响应可以减少浪费和不合格产品。

可集成切断阀，以减少真空阶段真空室的泄漏，尤其适用于超高真空反应器。

大动态量程和1:1000大动态量程比减少了所需的型号和备件数量，并提高了真空沉积设备的灵活性。

紧凑型多通道解决方案利用Ethernet, EtherCAT 和 Profinet等工业协议可通过网关选择接口。数据可用于预测性维护。

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