质量流量计 | 气相沉积 | 半导体
2025年3月21日
Bronkhorst
| 半导体是现代电子技术的核心，广泛应用于计算机、通信、医疗、汽车等领域，深刻改变了人们的生活方式。气相沉积（包括CVD和PVD）是半导体制造中用于沉积薄膜的关键工艺，直接影响器件的性能和可靠性。质量流量计用于精确控制反应气体的流量，确保薄膜沉积的均匀性和一致性。 |  |
工艺要求气相沉积工艺对薄膜的厚度、成分和均匀性要求极高，工艺难点包括气体流量的精确控制和反应条件的稳定性。质量流量计通过实时监测和调节气体流量，确保工艺参数的精确控制，从而提高薄膜质量和工艺稳定性。 |
重要议题
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在气相沉积过程中，通常使用多台质量流量计分别控制不同的气体或液体。例如，在CVD工艺中，一台MFC控制硅烷（SiH4）流量，另一台控制氮气（N2）流量，还有一台控制氧气（O2）流量。通过精确控制这些气体的流量，可以显著提高沉积速率和薄膜均匀性。 通过使用质量流量计，大大提高气体流量控制的精确性，确保反应气体的流量精确控制，以实现薄膜的均匀沉积。通过实时监控和调节气体流量，维持工艺条件的稳定性，减少批次间的差异。优化气体流量控制，提高沉积速率，同时减少材料浪费和能耗。 |
