质量流量控制器 | 实验室培育钻石
采用化学气相沉积技术（CVD)

近几十年，天然钻石迎来了从气相合成中生长出来的合成钻石。使用微波等离子体化学气相沉积（CVD）技术制造的实验室合成钻石越来越受到关注。主要用于制作珠宝首饰，也用于工业切割和抛光目的，未来或用于半导体晶圆制作。

Bronkhorst多年来一直与该领域机械和系统制造公司合作，为生长高质量的CVD钻石提供质量流量控制器和压力控制器。

工艺方案

Bronkhorst EL-PRESS数字电子背压控制器用于确保等离子体室内所需的低压恒定值。 EL-FLOW Select 热式质量流量控制器用于准确控制供应到反应器的气体流量。甲烷（CH4）、氢气（H2）作为前驱体供应到反应室用于促进金刚石的形成。根据客户需求，可提供额外的气体，如氮气（N2）、氩气（Ar）和氧气（O2）。氢气的典型流量为小流量（约1000 ml/min），甲烷和其他气体的流量也很小。Bronkhorst仪表可准确控制 3 ml/min 或更小流量。

在该低压应用中，一大优势是仪表能执行控制操作，不会出现泄漏，实现稳定和准确的过程条件。

结合对CVD工艺和市场需求的理解，Bronkhorst可为客户提供可靠的解决方案。欢迎CVD金刚石系统制造商随时与我们联系。